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          上海那艾實(shí)驗(yàn)儀器有限公司

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          非晶硒化銦的特性、應(yīng)用與噴霧干燥制備案例

          返回列表 瀏覽:245 日期:2020-04-18

          在半導(dǎo)體材料家族中,非晶硒化銦作為一種極具潛力的III-VI族化合物半導(dǎo)體,憑借其獨(dú)特的物理化學(xué)特性逐漸成為科研與產(chǎn)業(yè)界的關(guān)注焦點(diǎn)。對(duì)于不熟悉這類材料的讀者而言,我們可以先從基礎(chǔ)認(rèn)知入手:非晶硒化銦是硒化銦的無(wú)定形態(tài)產(chǎn)物,與晶態(tài)硒化銦相比,它不具備長(zhǎng)程有序的晶體結(jié)構(gòu),但保留了硒化銦核心的半導(dǎo)體屬性,同時(shí)因非晶態(tài)結(jié)構(gòu)展現(xiàn)出更優(yōu)異的相變特性、寬波段光響應(yīng)能力等獨(dú)特優(yōu)勢(shì)。其化學(xué)組成主要為銦(In)與硒(Se)的二元化合物,常見化學(xué)式有InSe、In?Se?等,其中非晶相結(jié)構(gòu)使其在相變存儲(chǔ)、光電子探測(cè)等領(lǐng)域具備不可替代的應(yīng)用價(jià)值。

          從應(yīng)用場(chǎng)景來(lái)看,非晶硒化銦的特性決定了其核心應(yīng)用集中在三個(gè)高潛力行業(yè)。首先是半導(dǎo)體電子行業(yè),隨著硅基半導(dǎo)體接近物理極限,非晶硒化銦憑借低有效質(zhì)量(0.14m?,優(yōu)于硅的0.19m?)、高電子遷移率和可調(diào)帶隙(1.4~2.8eV)等特性,成為下一代集成電路與相變存儲(chǔ)器的核心候選材料,可用于制備高性能晶體管陣列,突破傳統(tǒng)硅基器件的性能瓶頸。其次是光伏能源行業(yè),非晶硒化銦具備優(yōu)異的光吸收效率,其帶隙范圍與太陽(yáng)能光譜匹配度高,可作為薄膜太陽(yáng)能電池的緩沖層或吸收層前驅(qū)體,尤其在CISe/CIGSe等高效薄膜電池的制備中,能顯著提升電池的光電轉(zhuǎn)換效率。最后是光電子行業(yè),得益于寬波段光響應(yīng)能力(從紫外到紅外)和快速光響應(yīng)速度,非晶硒化銦可用于制造高靈敏度光探測(cè)器、光學(xué)傳感器等器件,廣泛應(yīng)用于安防監(jiān)控、環(huán)境監(jiān)測(cè)等領(lǐng)域。

          要實(shí)現(xiàn)非晶硒化銦的規(guī)模化應(yīng)用,高效穩(wěn)定的制備技術(shù)至關(guān)重要。噴霧干燥技術(shù)作為一種可連續(xù)化生產(chǎn)的粉體制備工藝,具有干燥速度快、產(chǎn)品粒徑均勻、易于工業(yè)化放大等優(yōu)勢(shì),尤其適合熱敏性半導(dǎo)體材料的制備——通過(guò)快速蒸發(fā)溶劑,可有效抑制晶體成核,保留材料的非晶態(tài)結(jié)構(gòu)。以下將詳細(xì)介紹三個(gè)不同工藝路線的那艾儀器噴霧干燥制備非晶硒化銦案例,涵蓋常規(guī)規(guī)模化生產(chǎn)、高性能納米顆粒制備和薄膜前驅(qū)體制備三種典型場(chǎng)景。

          第一個(gè)案例是常規(guī)離心噴霧干燥制備非晶In?Se?粉體,適用于光伏電池前驅(qū)體的規(guī)模化生產(chǎn),核心目標(biāo)是制備粒徑均勻、純度高的非晶粉體,滿足薄膜太陽(yáng)能電池量產(chǎn)需求。制備過(guò)程中,首先選取氯化銦(InCl?)和N,N-二甲基硒脲作為前驅(qū)體原料,以乙醇為溶劑,按照In與Se摩爾比1:1.5配制固含量5%的前驅(qū)體溶液,為提升溶液穩(wěn)定性,添加少量聚乙烯醇(PVA)作為分散劑。噴霧干燥設(shè)備采用LPG-15型離心噴霧干燥塔,工藝參數(shù)經(jīng)過(guò)優(yōu)化確定:進(jìn)風(fēng)溫度180℃、排風(fēng)溫度90℃,霧化器轉(zhuǎn)速20000r/min,進(jìn)料速率15kg/h,采用并流式熱風(fēng)接觸方式,確保霧滴快速干燥。干燥過(guò)程中,霧滴在熱風(fēng)作用下瞬間蒸發(fā)溶劑,前驅(qū)體快速固化形成非晶粉體,經(jīng)旋風(fēng)分離器收集后,得到平均粒徑2~5μm的非晶In?Se?產(chǎn)品。檢測(cè)結(jié)果顯示,產(chǎn)品純度≥99.5%,水分含量≤5%,非晶相純度通過(guò)X射線衍射(XRD)驗(yàn)證無(wú)明顯晶態(tài)衍射峰,將其用于CIGSe薄膜電池制備時(shí),可使電池光電轉(zhuǎn)換效率提升1.2個(gè)百分點(diǎn)。

          第二個(gè)案例是超聲微流控噴霧干燥制備無(wú)添加劑非晶InSe納米顆粒,聚焦高性能光電子器件應(yīng)用。該技術(shù)由某科研團(tuán)隊(duì)開發(fā),解決了傳統(tǒng)噴霧干燥需添加穩(wěn)定劑導(dǎo)致產(chǎn)品純度下降的問(wèn)題,通過(guò)微流控霧化實(shí)現(xiàn)霧滴的精準(zhǔn)控制,結(jié)合超聲輔助干燥提升非晶穩(wěn)定性。實(shí)驗(yàn)選用硝酸銦與硒代硫酸鈉為前驅(qū)體,去離子水為溶劑,配制0.02mol/L的前驅(qū)體溶液,經(jīng)超聲分散30min確保混合均勻,未添加任何分散劑或穩(wěn)定劑。噴霧干燥設(shè)備采用表面聲波(SAW)微流控噴霧干燥器,核心工藝參數(shù):霧化頻率10MHz,生成霧滴直徑5~10μm,干燥溫度控制在室溫(25℃),采用氮?dú)庾鳛楦稍镙d氣,流速357L/h,避免高溫導(dǎo)致非晶相結(jié)晶。干燥后通過(guò)靜電收集器收集產(chǎn)品,得到平均粒徑100~200nm的非晶InSe納米顆粒。表征結(jié)果顯示,產(chǎn)品為純非晶相結(jié)構(gòu),比表面積達(dá)85m2/g,光響應(yīng)率可達(dá)9.09×10?2A/W,相較于傳統(tǒng)方法制備的產(chǎn)品,其光探測(cè)靈敏度提升了30%,適用于高性能紅外光探測(cè)器的核心材料制備。

          第三個(gè)案例是氣動(dòng)噴霧干燥制備非晶In?Se?薄膜前驅(qū)體粉體,針對(duì)柔性電子器件的薄膜制備需求,通過(guò)噴霧干燥制備可直接用于噴霧涂層的前驅(qū)體粉體,簡(jiǎn)化柔性薄膜的制備流程。前驅(qū)體制備選用乙酰丙酮銦與硒粉為原料,以異丙醇為溶劑,加入少量乙醇胺調(diào)節(jié)溶液pH值至6.5,配制固含量8%的前驅(qū)體漿料,經(jīng)球磨分散2h確保漿料均勻性。噴霧干燥采用氣動(dòng)霧化方式,設(shè)備選用小型實(shí)驗(yàn)級(jí)噴霧干燥器,工藝參數(shù)優(yōu)化為:進(jìn)風(fēng)溫度160℃、排風(fēng)溫度85℃,霧化壓力0.3MPa,噴嘴與收集器距離20cm,進(jìn)料速率5kg/h,載氣為干燥空氣。干燥后得到流動(dòng)性良好的非晶In?Se?前驅(qū)體粉體,將其重新分散于異丙醇中制成噴霧墨水,通過(guò)氣動(dòng)噴霧涂層技術(shù)沉積在柔性聚酰亞胺基板上,經(jīng)后續(xù)低溫退火處理(250℃,氮?dú)夥諊┘纯赊D(zhuǎn)化為結(jié)晶度良好的In?Se?薄膜。該前驅(qū)體粉體的優(yōu)勢(shì)在于分散性優(yōu)異,噴霧涂層后薄膜厚度均勻性誤差≤5%,表面粗糙度<10nm,完全滿足柔性晶體管陣列的制備要求,器件遷移率可達(dá)287cm2/(V·s)。

          綜上,非晶硒化銦憑借其獨(dú)特的半導(dǎo)體特性,在半導(dǎo)體電子、光伏能源、光電子等高端領(lǐng)域展現(xiàn)出廣闊應(yīng)用前景,而噴霧干燥技術(shù)通過(guò)工藝優(yōu)化,能夠精準(zhǔn)控制產(chǎn)品的形態(tài)、粒徑與相結(jié)構(gòu),為非晶硒化銦的規(guī)模化制備與應(yīng)用提供了可靠技術(shù)路徑。上述三個(gè)案例分別覆蓋了規(guī)模化生產(chǎn)、高性能納米材料和柔性器件前驅(qū)體三大場(chǎng)景,展現(xiàn)了噴霧干燥技術(shù)的靈活性與適配性。隨著工藝的不斷優(yōu)化,相信非晶硒化銦將在更多高端制造領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)突破,而噴霧干燥等高效制備技術(shù)也將進(jìn)一步推動(dòng)其產(chǎn)業(yè)化進(jìn)程。

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